產品詳情
  • 產品名稱:臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:CY-VTC-3DC
  • 產品廠商:成越科儀
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簡單介紹:
CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統,主要用于多層氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直流磁控濺射選項可根據要求提供金屬薄膜沉積,實現三個直流、一個射頻/兩個直流和兩個射頻/一個直流濺射頭配置
詳情介紹:

CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統,主要用于多層氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直流磁控濺射選項可根據要求提供金屬薄膜沉積,實現三個直流、一個射頻/兩個直流和兩個射頻/一個直流濺射頭配置.

磁控濺射鍍膜儀技術參數:

輸入功率
 

·單相110V AC,50/60Hz

·1000W(含真空泵和冷水機)

磁控濺射靶
 

·包括三個帶水冷夾套的 2" 磁控濺射頭,通過快速夾具插入石英室

·射頻電纜更換可在CYKY購買

·法蘭上內置一個手動百葉窗

·包括一臺10L/min數控循環冷水機,用于冷卻濺射頭

濺射靶材

·靶材尺寸要求:2" 直徑 x 1/8" *大厚度

·濺射距離范圍:50-80mm可調

·濺射角度范圍:0-25°可調

·2"直徑Cu靶和Al2O3靶包括用于演示測試

·可根據要求提供各種氧化物 2" 濺射靶材,但需額外付費

·對于目標鍵合,包括 1 mm 2 mm 銅背板。

真空腔體

·真空腔體:300 毫米外徑 x 500 毫米高,由不銹鋼制成

·密封法蘭:直徑274毫米。由鋁制成,帶有高溫硅膠O型圈

·包括不銹鋼屏蔽籠,100% 屏蔽來自腔室的射頻輻射

·*大真空度:1.0E-5 Torr,可選配渦輪泵和腔體烘烤

樣品臺

·樣品臺是一個可旋轉的加熱臺,由陶瓷加熱器制成,帶有不銹鋼蓋

·樣品臺尺寸:直徑50毫米,適合*大 2" 晶圓

·轉速:1-10轉可調,涂層均勻

·支架溫度可從室溫調節至*高 600 °C600 °C 時*高 5 分鐘;500 °C 時*高 2 小時),通過數字溫度控制器精度為 +/- 1.0 °C

真空泵 

·內置KF40真空接口,用于連接真空泵。

·真空度:1.0E-2 Torr 含雙級機械泵

1.0E-3 Torr 帶可選渦輪泵

整機尺寸

540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H

包裝重量

大約 145 kg

保修單

一年有限保修,終身支持

是否支持定制

 

豫公網安備 41019702002438號

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