產品詳情
  • 產品名稱:離子源電子束蒸發鍍膜儀

  • 產品型號:
  • 產品廠商:成越科儀
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簡單介紹:
該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
詳情介紹:

該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

電子束蒸發鍍膜儀設備技術參數

使用條件

環境溫度

5℃~40

電源

380V

功率

20KW

水壓

2.5bar

真空室尺寸

蒸發室尺寸

φ500×H500()

過渡倉庫

φ280×H300()

電子槍

新型電子槍1套,6穴坩堝

離子源

考夫曼離子源K08一套

樣品轉盤

樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉,也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500

系統真空度

極限真空

12~24小時烘烤,連續抽氣5x10-5Pa

 

抽氣速率

從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10-4Pa

 

系統漏率

整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關機12小時后,測量真空室真空度≤10Pa

抽真空系統

TY1200分子泵+機械泵(VRD-30)系統,并設置旁路抽氣

鍍膜監測

采用TM160膜厚儀進行監測

鍍膜厚度的不均勻度

≤3%

豫公網安備 41019702002438號

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